
AMB陶瓷覆铜基板的制备工艺主要包括陶瓷基板的准备与焊膏制备、AMB陶瓷覆铜基板的钎焊、AMB陶瓷覆铜基板的刻蚀和清洗、镀覆等方面。AMB覆铜板生产工艺流程如下:

图 AMB覆铜板生产工艺流程
(1)铜片裁切
对铜箔进行裁切及整平,将铜箔按需要裁切成所需尺寸,为后续工段做准备。
(2)铜片/陶瓷清洗
陶瓷基板及铜箔需进行清洗,其中陶瓷基板仅需利用纯水水洗即可,铜箔还需送入铜箔清洗线,铜箔清洗线设置除油槽、水洗槽、微蚀槽及水洗槽,除油、在常温下用微蚀剂(硫酸、过硫酸钠)对铜片进行微蚀,微蚀的目的是为后续的化学沉铜提供一个微粗糙的活性铜表面,同时去除铜面残留的氧化物,微蚀后经一级逆流水洗、风刀吹干后80℃烘干。
(3)涂布、干燥
将经过清洗的瓷片通过丝印机涂布焊料,使基板表面均匀附着焊料(Ti-Ag-Cu)。涂布后的瓷片经烘箱干燥,主要目的是将焊料中有机成分去除。
(4)钎焊
将铜片和瓷片叠合后在真空钎焊炉内完成铜片与瓷片的焊接,焊接温度为900℃(电加热),并在炉内降温冷却。
(5)前处理
对焊接后的基板在覆铜板清洗线进行前处理,覆铜板清洗线,设置磨板腔、水洗槽、微蚀槽、酸洗槽。
(6)贴膜
将半成品覆铜板送入黄光区,使用贴膜机在基板表面贴上一层感光干膜,贴膜工段温度为100~120℃,采用电加热的方式加热。
(7)曝光
将贴膜后的覆铜板送入曝光机内,在紫外线的照射下,干膜被曝光的区域发生聚合反应,形成一种稳定的不溶于碳酸钠的物质附着于基板表面,非线路部分感光性干膜未接收到平行光照射而不发生聚合反应。
(8)显影
将曝光后的半成品覆铜板送入显影机内,经显影液冲洗,将不需要的膜去掉形成图形,再经水洗后用显影机自身热风吹干。
(9)检验
利用AOI对电路通断进行检验。
(10)铜蚀刻
显影后的半成品覆铜板送入蚀刻间,基板铜片上未被干膜覆盖的区域在酸性蚀刻液的作用下被腐蚀,温度约为 40℃~50℃。被干膜覆盖的区域则不发生反应,从而在铜片表面形成图形,铜蚀刻后需进行两级逆流水洗。
(11)剥膜
经铜蚀刻后的半成品覆铜板再经水洗后进入去膜槽,去除基板表面覆盖的干膜,剥膜后需进行两级逆流水洗。
(12)铜蚀刻清洗
经剥膜后的半成品覆铜板进入铜蚀刻清洗线,铜蚀刻清洗线包括一个酸洗槽及两个逆流水洗槽,半成品覆铜板加压水洗后再送入酸洗槽中进行清洗,接着经两级逆流水洗后进入烘干段烘干。
(13)焊料蚀刻
经清洗、烘干后的覆铜板再次送入蚀刻机进行蚀刻,在焊接蚀刻槽体内添加一定比例的AMB-2蚀刻液、双氧水、氨水 对焊料进行碱性蚀刻后进入两级逆流水洗后进入烘干段烘干。
(14)OSP/化学镀
根据客户需求选择防氧化工艺(OSP)、镀镍金、镀 镍、镀银工序中一种进行表面处理。
①防氧化工艺(OSP):主要流程为除油、水洗、微蚀、水洗、酸洗、水洗、OSP(防氧化处理)、水洗、烘干。OSP (防氧化处理)主要目的为防止铜片氧化进行钝化处理,在OSP槽体内添加一定比例的铜抗氧化剂。
②镀银:蚀刻后的基板送入镀银线,在裸露的铜面镀一层银,以达到保护铜面、维持可焊性的效果。
③镀镍/镀镍金:镀镍金线可进行镀镍,也可进行镀镍金,主要是将蚀刻后基板送入镀镍金线,在裸露的铜面镀一层镍或镍金,以达到保护铜面、维持可焊性的效果。
(15)切割
利用覆铜板激光划片机根据客户需求尺寸切割成特定尺寸。
(16)终检,包装入库。
相关生产设备包括:铜箔裁切整平机、清洗设备、丝印机、干燥箱、真空钎焊炉、覆铜板清洗线、贴膜机、曝光机、显影机、刻蚀机、撕膜机、超声检测机、耐压测试仪、除油线、OSP线、化学沉银线、化学沉镍金线、激光划片机、AOI检测设备等。
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一、暂定议题:
序号 | 暂定议题 | 拟邀请 |
1 | 金属化陶瓷基板在光器件的应用进展 | 拟邀请基板企业/高校研究所 |
2 | 功率器件封装用陶瓷基板金属化工艺研究 | 拟邀请基板企业/高校研究所 |
3 | 薄膜电路基板的的发展与应用 | 拟邀请薄膜基板企业/高校研究所 |
4 | 厚膜印刷陶瓷电路板的研究现状 | 拟邀请厚膜基板企业/高校研究所 |
5 | 厚膜金属化氮化硅(Si3N4)陶瓷基板的可靠性研究 | 拟邀请厚膜基板企业/高校研究所 |
6 | 功率模块用陶瓷基板AMB覆铜技术 | 拟邀请基板企业/高校研究所 |
7 | 直接敷铝陶瓷基板的开发与应用 | 拟邀请基板企业/高校研究所 |
8 | 陶瓷薄膜电路生产工艺技术 | 拟邀请薄膜电路企业/高校研究所 |
9 | 三维陶瓷基板制造工艺研究 | 拟邀请基板企业/高校研究所 |
10 | 基于增材制造技术制备陶瓷电路基板 | 拟邀请基板企业/高校研究所 |
11 | LTCC玻璃陶瓷基板材料的研究 | 拟邀请材料企业/高校研究所 |
12 | 高纯氧化铝基板的制备 | 拟邀请基板企业/高校研究所 |
13 | ZTA陶瓷基板的关键制备技术与应用 | 拟邀请基板企业/高校研究所 |
14 | 氧化铝陶瓷金属化技术的研究进展 | 拟邀请基板企业/高校研究所 |
15 | 高导热氮化硅陶瓷基板的研究及应用进展 | 拟邀请氮化铝基板企业/高校研究所 |
16 | 高导热氮化硅基板的制备与应用 | 拟邀请氮化硅基板企业/高校研究所 |
17 | 活性钎料在AMB陶瓷基板的应用与发展 | 拟邀请材料企业/高校研究所 |
18 | 电子陶瓷基板表面激光孔加工技术 | 拟邀请激光企业/高校研究所 |
19 | 高品质陶瓷粉体的制备技术 | 拟邀请材料企业/高校研究所 |
20 | 陶瓷基板检测技术方案 | 拟邀请检测设备企业/高校研究所 |
21 | 金刚石多晶在新能源散热方面的应用 | 拟邀请材料企业/高校研究所 |
22 | 金刚石在高性能电子电力的应用 | 拟邀请材料企业/高校研究所 |
23 | 金刚石半导体衬底研磨抛光的技术研究及市场展望 | 拟邀请材料企业/高校研究所 |
24 | 单晶金刚石的研究及加工研究进展 | 拟邀请材料企业/高校研究所 |
25 | 金刚石材料在半导体领域的技术应用于展望 | 拟邀请材料企业/高校研究所 |

二、报名方式:
方式一:
温小姐:18126443075(同微信)
邮箱:ab057@aibang.com
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注意:每位参会者均需要提供信息
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