1月18日，微机电系统（MEMS）、纳米技术和半导体市场晶圆键合与光刻设备领先供应商EV集团（EVG）现推出EVG®7300自动化SmartNIL®纳米压印与晶圆级光学系统。EVG7300是EV集团最先进的解决方案，在单个平台中结合了多种紫外线工艺技术，包括纳米压印光刻（NIL）、镜片成型和镜片堆叠（紫外线键合）。
这部面向行业的多功能系统旨在满足多种新兴应用的研发和生产需求，这些新兴应用大多涉及微米和纳米图案成型以及功能层堆叠技术，包括晶圆级光学系统（WLO）、光学传感器和投影仪、汽车照明、增强现实耳机波导、生物医学设备、超透镜和超表面，以及光电子学应用。EVG7300支持最大300毫米晶圆尺寸，具有高精度调准、先进工艺控制和高吞吐量等优势，可满足多种自由曲面和高精度纳米和微光学元件与器件的大批量制造需求。
EV集团企业技术总监托马斯·格林斯纳（Thomas Glinsner）表示：“EV集团深耕纳米压印技术领域二十余载，我们将继续在这一重要领域开拓创新，开发出新型解决方案，满足不断变化的客户需求。EVG7300是EV集团纳米压印解决方案系列的最新成员，将我们的SmartNIL全场压印技术与透镜成型和透镜堆叠技术结合于顶级系统，拥有市场上最精确的调准和工艺参数控制功能，为我们的客户带来了前所未有的灵活性，足以满足行业研究和生产需求。”
EVG7300系统既可作为独立工具，也可用作EV集团HERCULES® NIL全面集成型UV-NIL跟踪解决方案中的集成模块。UV-NIL解决方案可添加额外的预处理步骤，例如清洁流程、抗蚀剂涂层、烘焙或后处理等，以满足特定工艺的优化需求。EVG7300系统结合了调准平台改进、高精度光学、多点间隙控制、非接触式间隙测量和多点力控制等技术，达到了业内领先的调准精度（最低可至300纳米）。EVG7300是一种高度灵活的平台，提供三种工艺模式（透镜成型、透镜堆叠和SmartNIL纳米压印），支持从150毫米到300毫米晶圆的基板尺寸。该高效平台能够快速加载印戳和晶圆、快速调准光学器件、提供高功率固化功能，且工具尺寸小巧，能够充分满足行业对新型晶圆级光学系统（WLO）产品的制造需求。
原文始发于微信公众号（艾邦半导体网）：EVG推出自动化纳米压印与晶圆级光学系统
