据外媒报道，LG化学开始开发用于半导体后端工艺的光刻胶 (PR)，目标是向全球半导体公司供应这些光刻胶。为了提高芯片性能，他们在半导体前端工艺上雕刻超精细电路图案后，正在开发用于后端工艺的PR。
据了解，LG化学最近开始与一家全球半导体公司合作开发后端工艺PR。一位材料行业负责人表示：“LG 化学其先进材料部门已投入到半导体后端工艺 PR 技术的开发中。基于他们在半导体后端工艺薄膜材料技术方面的专业知识，他们正在加快PR的研发速度。”
在韩国国内市场，LG 化学已经成功实现了半导体全工艺关键材料——极紫外（EUV）PR的国产化，目前正在继续开发半导体后端工艺的PR。韩国企业正在积极进入以日本为首的公关市场。韩国企业正在积极进入以日本为首的光刻胶市场。
考虑到LG化学仍处于开发的早期阶段，预计还需要一些时间，在现有材料开发成果的基础上加快开发供应。
信息来源：Etnews
原文始发于微信公众号（艾邦半导体网）：LG化学计划开发半导体后端工艺光刻胶