3月13日，据日媒报道，三菱电机在日本熊本县菊池市举行新功率半导体工厂奠基仪式。该工厂将生产新一代具有高效性能的SiC（碳化硅）衬底产品，并于4月开始施工，目标在两年内竣工并投入运营。
图为三菱电机和ROHM的功率半导体生产基地
新工厂将位于三菱电机子公司的前液晶相关工厂的旧址，建设一栋6层楼建筑，总面积达42,000平方米。
作为SiC半导体的核心生产基地，该工厂计划采用自动化生产线，包括引进无人机器人等措施以节省劳动力。通过采用最新的设施，预计将减少约30%的用水量，并能将约70%的废水回收再利用。
功率半导体是控制电力的半导体器件，其中SiC比传统材料硅具有更高能效。由于全球脱碳计划和电动汽车（EV）的普及，其市场需求正在迅速增长。三菱电机半导体与设备业务部高级执行官Masayoshi Takemi表示：“我们希望通过这座采用尖端技术的工厂，为全球脱碳做出贡献。
原文始发于微信公众号（艾邦半导体网）：三菱电机新建碳化硅工厂，目标两年投入运营